리소그래피 공정 CD·오버레이 계측 데이터 수집·평가 경험
약 70초
인턴 포토 공정 데이터 분석 보조, CD-SEM·OVL 계측 참여
인턴 때 포토 공정에서 CD-SEM을 이용한 패턴 폭 계측과 오버레이 측정 데이터를 수집하는 보조를 했습니다. 계측 데이터를 수집할 때 어떤 위치에서, 어떤 주기로 측정하느냐가 공정 상태 모니터링의 정확도를 결정한다는 걸 배웠습니다. 웨이퍼 내 균일도를 평가하려면 가장자리와 중심부를 포함한 다점 측정이 필요하다는 것도 알았습니다.
오버레이 편차 분포를 플롯하면 특정 방향으로 치우침이 보이고, 이를 통해 장비 정렬 상태를 추론할 수 있었습니다. 데이터를 단순히 수집하는 것과 패턴을 해석할 수 있는 것은 다른 수준의 역량이라는 걸 그때 배웠습니다. 계측 데이터의 가치는 수집보다 해석에서 나온다는 걸 알았습니다. 이후 저는 데이터를 볼 때 분포 형태와 이상치 위치를 함께 확인하는 습관이 생겼습니다.
이 결의 특징
CD-SEM(Critical Dimension - Scanning Electron Microscope)으로 선폭을 측정했습니다. 다점 측정(칩 4개 모서리 + 중앙 5점)을 하면 균일도를 평가할 수 있었습니다. 측정이 중요한 게 아니라 해석(이 편차가 공정 온도 변동인지, 마스크 오염인지)이 수집보다 중요했습니다.
이 결이 통하는 자리
데이터 해석의 중요성을 깨달은 것이 통합니다. 면접관이 '측정만으로 충분한가'고 물으면, '숫자 뒤의 공정 의미를 알아야 액션을 결정한다'는 통찰이 분석 깊이를 보여줍니다.