EUV 노광 기술이 기존 ArF 대비 가지는 장점과 양산 적용 시 어려운 점을 설명해주세요.

극자외선 노광이 기존 불화아르곤 노광 대비 갖는 핵심 장점은, 빛의 파장이 훨씬 짧다는 데서 나온다고 이해하고 있습니다. 회로를 그리는 빛의 파장이 짧을수록 더 가는 선을 더 촘촘히 새길 수 있어, 기존 방식에서 여러 번 나눠 찍어야 하던 패턴을 더 적은 단계로 구현할 여지가 생깁니다. 다만 저는 장점만 보지 않습니다. 양산에서의 어려움이 같이 따라옵니다. 그 짧은 파장의 빛은 공기나 일반 렌즈에 흡수돼버려, 진공에 가까운 환경과 특수한 반사 광학계가 필요합니다. 또 광원의 출력을 안정적으로 높게 유지하기 어렵고, 그게 생산 속도와 비용에 직접 영향을 줍니다. 마스크 결함 관리도 더 까다로워집니다. 즉 미세화 이득과 장비·운영 부담이 한 묶음입니다. 신기술이 늘 우월하다기보다, 그 이득을 감당할 양산 조건이 되느냐로 갈린다고 봅니다. 핵심은, 장점의 원리와 양산 부담을 한 묶음으로 함께 짚는다는 점입니다.