SEM 측정으로 CD 편차 패턴 발견 및 레시피 조정
약 70초
인턴 식각 공정 결과물 SEM·엘립소미터 측정 보조, 위치별 비교
인턴 때 식각 공정 결과물을 SEM(주사전자현미경)으로 측정하는 업무를 보조했습니다. 시뮬레이션에서 예측한 CD(Critical Dimension) 값과 실제 측정값이 5% 이내로 수렴하는 조건을 찾는 게 목표였습니다. 처음엔 두 값이 8% 이상 차이났는데, 측정 위치를 웨이퍼 중심과 가장자리로 나눠 비교하면서 엣지 근처에서 편차가 집중된다는 걸 발견했습니다. 그 결과를 바탕으로 레시피 조건을 조정했더니 측정 편차가 3% 이내로 줄었습니다. 물리적 측정은 시뮬레이션의 가정을 검증하는 과정이라는 걸 직접 경험했습니다.
숫자가 시뮬레이션과 일치하는 게 아니라 왜 다른지를 이해하는 게 더 중요하다는 걸 그때 배웠습니다. 이후 저는 측정 위치 설계를 공정 검증 계획에서 먼저 정하는 편입니다.
이 결의 특징
이 결은 작은 오류에서 배운 교훈을 체계적인 절차로 옮기는 학습 패턴을 보여줍니다. 변수를 통제하는 습관이 형성된 흔적이 있습니다.
이 결이 통하는 자리
재현성을 중시하는 환경에서는 이 접근법의 효율성이 검증됩니다. 변수 관리와 추적 가능성을 중요하게 여기는 조직에서 통합니다.