반도체 클린룸의 청정도 기준(Class 1, Class 10 등)이 어떻게 정의되며, 이를 유지하기 위한 핵심 인프라 요소를 설명해주세요.

정의만 말하기보다, 왜 그렇게 깐깐한지부터 말씀드리고 싶습니다. 청정도 등급은 일정 부피 공기 안에 일정 크기 이상 먼지 입자가 몇 개 있느냐로 정해진다고 이해하고 있습니다. 등급 숫자가 작을수록 그 입자 허용 개수가 더 적은, 더 깨끗한 등급입니다. 핵심은 왜 그 정도까지 깨끗해야 하는가입니다. 회로 선폭이 매우 좁아, 눈에 안 보이는 작은 입자 하나가 그 위에 떨어지면 회로가 끊기거나 단락돼 그 칩이 불량이 되기 때문입니다. 그래서 등급은 그냥 숫자가 아니라 수율과 직접 닿는 기준입니다. 이걸 유지하는 인프라도 거기서 나옵니다.

공기를 끊임없이 미세 필터로 걸러 위에서 아래로 한 방향으로 흘려 입자를 바닥으로 빼는 기류, 외부보다 압력을 높여 바깥 공기가 안 새 들어오게 하는 양압, 사람과 자재가 입자의 가장 큰 원천이라 들어오기 전 입자를 떨어내는 절차가 핵심입니다. 다만 세부 등급 수치는 기준 체계마다 달라 단정하긴 어렵다는 한계는 둡니다. 핵심은, 정의가 아니라 기준이 수율에 닿는 이유에서 인프라를 끌어낸다는 점입니다.