반도체 웨이퍼 가공 기본 원리 이해 — 수업과 실습 경험 중심
반도체 웨이퍼 가공 원리를 쌓아온 건 전자공학 전공 수업에서 반도체 소자 및 공정 과목을 들으면서입니다. 포토리소그래피, 식각, 증착, 이온 주입, CMP 등 각 단계가 어떤 역할을 하는지를 순서대로 이해했습니다. 실습에서는 소형 스핀코터로 포토레지스트를 도포하고 노광·현상 과정을 직접 경험했습니다. 화면 속 이론과 달리 실제 공정에서는 미세한 오염과 환경 요인이 결과에 영향을 준다는 것을 경험으로 배웠습니다. 클린룸 환경이 왜 중요한지를 실험 결과의 산포 차이로 직접 확인한 것이 기억에 남습니다. 웨이퍼 가공은 각 단계의 수율이 최종 수율에 누적 영향을 주므로, 앞 단계에서 발생한 결함이 얼마나 중요한지를 이해하고 있습니다. 아직 양산 환경 경험은 없지만 기본 공정 흐름과 각 단계의 목적은 잘 이해하고 있습니다.