사진 공정에서 데이터를 수집하고 평가한 경험이 있다면, 그 과정에서 어떤 방법을 사용했는지 설명해 주세요.

인턴 때 포토 공정에서 CD-SEM을 이용한 패턴 폭 계측과 오버레이 측정 데이터를 수집하는 보조를 했습니다. 계측 데이터를 수집할 때 어떤 위치에서, 어떤 주기로 측정하느냐가 공정 상태 모니터링의 정확도를 결정한다는 걸 배웠습니다. 웨이퍼 내 균일도를 평가하려면 가장자리와 중심부를 포함한 다점 측정이 필요하다는 것도 알았습니다.

오버레이 편차 분포를 플롯하면 특정 방향으로 치우침이 보이고, 이를 통해 장비 정렬 상태를 추론할 수 있었습니다. 데이터를 단순히 수집하는 것과 패턴을 해석할 수 있는 것은 다른 수준의 역량이라는 걸 그때 배웠습니다. 계측 데이터의 가치는 수집보다 해석에서 나온다는 걸 알았습니다. 이후 저는 데이터를 볼 때 분포 형태와 이상치 위치를 함께 확인하는 습관이 생겼습니다.