8nm, 5nm, 3nm, 2nm와 같은 저기술 노드에서 작업한 경험에 대해 구체적으로 설명해 주실 수 있나요?

8nm·5nm·3nm 같은 첨단 노드에서 직접 작업한 경험은 없지만, 공부하며 제가 부딪힌 어려움은 노드가 내려갈수록 왜 공정 제어 요구가 급격히 까다로워지는지를 잡는 일이었습니다. 처음엔 그냥 작아진다고만 봤는데, 포토리소그래피 해상도 한계와 기생 성분 증가가 설계와 공정 양쪽에서 동시에 도전이 된다는 게 잘 안 잡혔기 때문입니다. 그래서 제가 들고 간 절차는, 막연히 다 읽기보다 EUV 도입 배경을 한 축으로 잡고 노드별로 새로 요구되는 공정 최적화 항목과 장비 정밀도 기준을 파운드리 기술 문서와 논문에서 갈라 정리한 것이었습니다. 이 과정에서 모르는 부분은 혼자 끙끙대지 않고 연구실 선배에게 개념을 물어 손을 빌렸습니다. 이후엔 노드 학습을 노드별 도전 항목 표로 절차화해 남겼습니다. 다만 한계는 분명합니다. 저는 문서·논문 학습 수준이라, 실제 미세 노드 라인의 데이터를 다뤄 본 경험은 없습니다. 그래서 노드 미세화를 정리한 학습 경험을 토대로, 실제 데이터와 함께 그 깊이를 더하려 합니다.